رفتن به مطلب

جستجو در تالارهای گفتگو

در حال نمایش نتایج برای برچسب های 'xrd'.

  • جستجو بر اساس برچسب

    برچسب ها را با , از یکدیگر جدا نمایید.
  • جستجو بر اساس نویسنده

نوع محتوا


تالارهای گفتگو

  • انجمن نواندیشان
    • دفتر مدیریت انجمن نواندیشان
    • کارگروه های تخصصی نواندیشان
    • فروشگاه نواندیشان
  • فنی و مهندسی
    • مهندسی برق
    • مهندسی مکانیک
    • مهندسی کامپیوتر
    • مهندسی معماری
    • مهندسی شهرسازی
    • مهندسی کشاورزی
    • مهندسی محیط زیست
    • مهندسی صنایع
    • مهندسی عمران
    • مهندسی شیمی
    • مهندسی فناوری اطلاعات و IT
    • مهندسی منابع طبيعي
    • سایر رشته های فنی و مهندسی
  • علوم پزشکی
  • علوم پایه
  • ادبیات و علوم انسانی
  • فرهنگ و هنر
  • مراکز علمی
  • مطالب عمومی

جستجو در ...

نمایش نتایجی که شامل ...


تاریخ ایجاد

  • شروع

    پایان


آخرین بروزرسانی

  • شروع

    پایان


فیلتر بر اساس تعداد ...

تاریخ عضویت

  • شروع

    پایان


گروه


نام واقعی


جنسیت


محل سکونت


تخصص ها


علاقه مندی ها


عنوان توضیحات پروفایل


توضیحات داخل پروفایل


رشته تحصیلی


گرایش


مقطع تحصیلی


دانشگاه محل تحصیل


شغل

  1. سلام ضمن کسب اجازه ازاقای دکتر مدیرمحترم تالار مهندسی مواد تو این تاپیک جزوات درسی مهندسی مواد ومتالورژی رو باتون قرار میدیم امیدوارم به کمک شما دوستان گرامی منبعی ارزشمند بری دانشجویان وعلاقه مندان دروس وگرایشهای مهندسی مواد فراهم بشه موفق باشیم
  2. rahele_s

    XRD

    مقدمه تحلیل و آنالیزپراش اشعه ایکس( (XRDدر هندسه انعکاسی با استفاده از انرزی های اشعه ایکس بین 5-17kev انجام می شود.اطلاعات حاصله از ساختار کریستالها و بلورها تنها از سطح و چند میکرومتر در زیر آنها به دست امده است.از آنجا که عمق نفوذ انرژی اشعه ایکس کم است پس پراش اشعه ایکس کم کاربرد است بنابراین قادر به کاوش و شناسایی سازهای داخلی ضخیمتر نیست.تابش سنکروترون،انرژی های اشعه ایکس از kev100به بالاتر تولید می کند که به ما اجازه مطالعه نمونه ها را تا چند میلی متر ضخامت می دهد.در مطالعه گزارش شده در اینجا نشان داده شده است که می توان با استفاده از انرژی بالاتر اشعه ایکس (100-320kev)انتقال ساختار ،ذوب وانجماد نمونه ها ی فلزی با ضخامت را در داخل قالب را می توان با استفاده از nonivasively فهمید. استفاده از XRDدر مطالعه انجماد فلزات و تغییرات فاز جدید نیست،با این حال در بسیاری از تحقیقات برای نمونه های بسیار نازک (در حد بیشتر از چند میلی متر از کوره هایی با میرایی کم اشعه ایکس و با پنجرههایی از جنس (برلیم،گرافیت یا پلی آمید)و با کاهش انرژی اشعه ایکس(kev50 و یا پایینتر)استفاده می شود.تحقیق و بررسی بر روی نمونه های پیشرفته نشان می دهد که XRD با انرژی بالاتر از kev150 نیازاست.سیستم فلاش XRDاین امکان را برای مطالعه تغییرات ساختاری در طول تغییرات پویا مانند رشد بلوری فراهم می کند.از جمله بتچولد و هکارانش،کوپینگ و همکارانش،بالاک و همکارانش ،ریمرز و همکارانش در مطالعات انجام داده برای توسعه انرژی بالایXRDبرای مطالعه تنش در بافتهای ضخیم (تا 7/12میلی متر)از نمونه فولاد هستند.برای جزئیات بیشتر در مورد عوامل میرایی و XRDبه پراش XRDمراجعه کنید. در موسسه ملی استاندارد و فناوری (NIST)بر اساس و پایه تکنولوزی انتقال XRDبه مطالعه و توسعه استحکام ریخته گری جامد تک بلور (تک کریستال) در پره توربین کردنند.انرژی بالای اشعه ایکس (kev150-320)از طریق نفوذ به مواد ریخته گری و با تولید یک الگوی پراش (نمودار)مشخص از آن به وضوح نشان می دهد که آیا آن منطقه و حوزه از نمونه جامد است یا مایع. زمان واقعی انتقال تصویر loueاشعه ایکس از ریخته گری نشان می دهد که الگوی پراش اشعه ایکس (نقاط پراش)مرتب از جامد ویک حلقه پراکندگی از مایع است.الگوهای مختلف فضایی را فراهم می کند که به طرز چشمگیری دارای کنتراست و کیفیت بالایی هستند که با مقایسه الگوی فضایی آنها به راحتی به وضعیت جسمانی آن آلیاژ پی برد. قدرت امواج(میرایی)وXRD:اصول اولیه ضریب میرایی برهم کنش تک انرژی از باریکه اشعه ایکس با ماده جرم کلی ضریب میرایی ( µ )را مشخص می کند.شدت انتقال پروتوهای اشعه ایکس (در برخورد عمود)با مواد داده شده از طریق رابطه A،Iشدت انتقال اشعه ایکس می باشد،Iشدت برخورد اشعه ایکس است. µ جرم ضریب میرایی (که تابعی از انرزی اشعه ایکس است)، چگالی ماده می باشد و X ضخامت ماده می باشد. ضریب تضعیف (میرایی)خطی(µ)،به عنوان محصولی از ضریب میرایی جرم وچگالی تعریف شده است.برای مقایسه نسبی مواد مختلف با ضخامت یکسان به کار برده می شود.در مقابل ضریب خطی میرایی(که ضخامت مواد را با شدت -----کاهش می دهد)که اغلب به عنوان اندازه گیری عمق نفوذ موثر اشعه ایکس استفاده می شود .با توجه به فورمل ----برای مواد مختلف در فورمل Aنشان داده شده است که با بالا بردن انرژی اشعه ایکس انتقال را افزایش می دهد،زیرا کاهش ضریب میرایی همراه بامصرف انرژی است. ضریب میرایی کلی ممکن است از مجموع ضرایب میرایی نسبی به دست آید.فورمل Bنشان می دهد که سهیم شدن فوتوالکتریک (PE)هالی کامپتون (COMP)و فرآیندهای منسجم(COH)می باشد. فورمل B: باتوجهبه فورمل،ضریب میرایی برای نیکل به عنوان یک تابع از انرژی است که در Bنشان داده شده است.اغلب برهمکنشهای پرتو ایکس با ماده در فوتوالکتریک با انرژی های کم و پراکندگی کامپتون با انرژی های بالاتر رخ می دهد.هرچند پراکندگی منسجم (که باعث بالا رفتن انکسار می شود)کمک زیادی به میرایی کل نمی کند اما نشانه هایی از تداخل در انرژی های بالا اتفاق می افتد. پراش اشعه ایکس(XRD) شکلA:ضریب خطی میرایی متقابل ،µ،به عنوان یک تابع از انرژی اشعه ایکس است.معنا و مفهوم فیزیکی ----عمق نفوذ موثر است. شکلB:ضرایب میرایی خطی کلی و جزیی برای نیکل به عنوان یک تابع از انرژی اشعه ایکس شکل C:انرژی های اشعه ایکس عامل پراکندگی اتمی در خصوص نیکل هستند،رسم را به صورت تابعی از زاویه پراکندگیθ2 است. شدت XRDازunpolarizedپرتو اشعه ایکس از بلورهای کوچک زمانی که قانون پراگ موجود باشد ممکن است از نظریه های پراش جنبشی استفاده شود.هرچند پراش به طور مطلق قابل اندازه گیری نیست اما می توان کل انرژی(شدت مجموع همه)محاسبه شده رااندازه گیری کرد . فورمل C: کل انرژی پراش تعیین می شود به وسیله Eکه انرژی کل پراش است.—شدت برخورد اشعه ایکس،wمیزان چرخش زاویه نمونه است،می بایست تمام سطوح زیر زیر تداخل توابع یکپارچه شده باشد،eحمله یا برخورد یک الکترون است،Rفاصله الکترون از کریستال است که در آن شدت،اندازه گیری می شود،mجرم الکترون است،cسرعت نور در خلاء،θ2زاویه بین برخورد و نحوه پراکندگی ،ε ثابت عایق فضایی آزاد است،fعامل ساختاری بلور،---دبای عامل دما،---------------------- کهمیانگین جابجایی جزیی به دلیل اثرات درجه حرارت در پراش معمولی است.vحجم بخش کوچکی از کریستال روشن شده توسط پرتو اشعه ایکس است:---حجم سلول واحد کریستال وλطول موج اشعه ایکس است. پراش وابسته به انرژی است که عوامل پراکندگی که وابسته به انرژی اتمی می باشد(f)عبارتند از:عامل مدت،عامل لورنتز،همچنین عامل مدت قطبش که تابعی از انرژی اشعه ایکس است،همچنین به زاویه پراکندگیθ2نیز بستگی دارد.در مسیررو به جلو و مستقیم پراش(0=θ2)،پراش ناشی از همه الکترونهای اتم در فاز است.عامل پراکندگی اتمی تابعی از sinθ/λ است،مقدارfبرای خارج از محور کاهش می یابد و پراکندگی وابسته به طول موج اشعه ایکس پراکنده شده است،در شکلcکه عامل پراکندگی اتمی برای نیکل نشان داده شده است انرژی و زاویه وابسته به عامل پراکندگی رسم شده است.برای انرژی های بالا پراکندگی به طرز چشمگیری افزایش می یابد.اغلب از یک نمونه ساده برای پراش استفاده می شود. معادله پراگ---------------که در آن nیک عدد صحیح است،λطول موج پرتو ایکس (برحسب نانومتر)،Eانرژی پرتو ایکس (برحسبkev)، dفاصله شبکه است،وθ2زاویه بین برخورد و پراش اشعه ایکس است،بیانگر این شرایط است.بنابراین فعل وانفعالات پراش بین فضایی(θ)و انرژی (E)***** است. برای یک شبکه از سطح داده شده پرتوهای ایکس باانرژی بالاتر از حد منطقی در زوایای کوچکتر تداخل پیدا می کنند.یک آشکار ساز اشعه ایکس در جایی قرار دارد که حوزه پراش ثبت شده را از پراش مکانی اشعه ایکس تفکیک می کند.میزان حساسیت یک آشکارساز در محل قرار گرفته شده با انرژی هر یک از قلل پیک از نقاط پراش مرتبط است. مفاهیم انتقال پراش با انرژی بالا بررسی داخلی در یک ریخته گری نیازمند یک انتقال پیکربندی است.برای نفوذ اشعه ایکس به داخل قالب اکسید نسوز (5-10میلی متر ضخامت دیواره )و ریخته گری نمونه (1-20میلیمتر ضخامت)به اشعه ایکس با انرژی بیش ازkev100نیاز است. پرتو اشعه ایکس را در درون قالب ریخته گری برای نمونه بلورین در شکل Dرا در نظر بگیرید.از شدت پرتو ایکس اولیه که از دیواره قالب و بخشی از نمونه که پراکندگی یکسانی دارد که در محل عبور آن قرار دارد و کاسته می شود. پراکندگی اشعه ایکس در طول مسیر خارج شده را از طریق میزان شدت کاسته شده آن از نمونه باقیمانده و دیواره قالب به دست می آورند.میزان کاهش میرایی در امتداد مسیرهای ورود و خروج با افزایش انرژی به میزان قابل توجهی کاسته می شود به طوری که در مورد سیستم های معمولی پراش اشعه ایکس (که ازkev 5-20)به 150-320kev به حداقل رسانده می شود. شدت یکپارچگی و یکنواختی یک جامد بلورین داده شده در معادلهcکه محصولی از عامل ساختاری مربعی (ff)است به کریستال ،دامنه پراکندگی تامسون ،الکترون جدا شده و حجم مورد تابش سلول واحد کریستال است بستگی دارد.fیک تابع از نوع اتمهای یک کریستال است(از طریق عامل پراکندگی اتمی f)نحوه پیکربندی سلول واحد در کریستال ،مشبکهای خاصی را در پراکندگی به وجود می آورند.برای یک طرف از مرکز کریستال(f.c.c)،ازجمله نیکل ،عامل ساختاری 4برابر fاست اگر شاخص میلر(hkl)یک دست باشد(چه فردی و چه بعه صورت جمعی)،اما اگر شاخص به صورت مخلوط باشد صفر می شود .عامل ساختاری چهار وجهی موادی باسطوح یک دست که توسط شاخص میلر تعریف شده است f16برایf.c.cمی دهد. شکل:Dهندسه مورد استفاده در توسعه و مدل تحلیلی برای انتقال XRDبا استفاده از یک نمونه ریخته گری با پوشاندن قالب توسط مدل دیواری. وابستگی عامل پراکندگی اتمی برای قطعه ای از نیکل در شکل Cرا به صورت تابعی از زاویه پراکندگی برای انرژی های چند اشعه ایکس رسم شده است.در انرزی های پایین اشعه ایکس عامل پراکندگی اتمی بسیار بزرگ است حتی برای زاویه پراکندگی بزرگ.بااین حال با انرژی های بالای اشعه ایکس fفقط برای زوایای کوچک پراکندگی قابل ملاحظه است(به عنوان مثال برای انتقال هندسی). به طور خلاصه انرژی کم اشعه ایکس (kev40-10)از زوایای پهن و وسیع بازتاب می شود .به عنوان مثال ،عامل پراکندگی برای نیکل در پرتو ایکسی با انرزی kev150،5/16است در 5/3درجه از محل برخورد پرتو اشعه ایکس است(نوعی از هندسه آزمایشی ما).عامل ساختار چهار وجهی برای این مثال x16(5/16)یا356/4 است.از آنجا که حجم مورد تابش (1میلی متر در 1میلی متر)شامل بسیاری از سلول های واحد(برای کریستال نیکل----------)است،نسبت----بسیار بزرگ است(------).عامل پراکندگی اتمی بزرگ در پراش رو به جلو و هم جهت با تعداد زیادی از سلولهای واحد در امتداد مسیر پرتو اولیه است(همه با ساختار بلورینو جهت گیری یکسان)علاوه بر این شدت قابل توجهی از انرژی بالای اشعه ایکس که به قالب و نمونه نفوذ می کند راندمان انتقال پراش را افزایش می دهد. مدل پراش اشعه ایکس(XRD) ما موفق به ساخت یک مدل برای انتقال XRDشدیم که شامل میرایی در داخل دیوار ،میرایی در بخش ورودی به قالب (Xموجود در نوار جانبی شکل D)نمونه و نقطه ای از نمونه که پراش در آن رخ می دهد ،بازده پراش (معادله C)و میرایی اشعه ایکس از طریق بخش باقی مانده از نمونه و خروجی از دیواره قالب را نشان می دهد. شکلaقطعاتی از مدل پیش بینی شده برای پراش نمونه نیکل است .راندمان انتقال(XRD)قویتر از دو تابع ضخامت نمونه و انرژی برخورد اشعه ایکس است.که پیکها و قله های مطلوبی را در محدوده مورد نظر (kev275-100)از انرژی های اشعه ایکس (XRD)برای انتقال نمونه نیکل نشان داده است. شکل 1:قطعات تولید شده از بهره وری XRD: a:نمونه نیکل در ضخامتهای 2-25میلی متر b:نمونه نیکل ضخیم که توسط مواد کپک احاطه شده است. شکل b1 بازده پراش از قطعات نمونه نیکل با ضخامت 10میلی متر که بین دو قطعه از مواد قالب قرار گرفته است را نشان می دهد،و هریک از ضخامتهای نشان داده شده را توضیح می دهد. ضریب میرایی برای مواد قالب (مخلوطی از آلومینا ،سیلیس و زیرکونیوم )را با استفاده از نرم افزار X.COM.2 محاسبه کرد.چگالی نمونه ای از مواد قالب را -----------محاسبه کرد.برای انرژی های اشعه ایکس بیشتر از kev150حتی در قالب با ضخامت دیوار بزرگ مثلا 5/7میلیمتر شدت کاهش یافته XRDتوسط آن فقط در حد 5/1 است. با استفاده از فن آوری XRDمی توان به راحتی منطقه غلیظ و نرم (منطقه ای از انجماد دندریت که شامل جامد و مواد مذاب است)و ریخته گری را پیش بینی کرد که حجم نمونه شامل هم مایع و هم جامد بود.بخشی از نمونه مایع باعث رقیق کردن (کم کردن) برخورد و پراش اشعه ایکس می شود.درست پایینتر از چگالی مایع استفاده می شود.بخش جامد از برخورد و پراکندگی پرتوهای ایکس و همچنینتولید پراش منسجم می کاهد.یک نمونه 6میلیمتری از آلیاژ ریخته گری ---N-نیکل باعث ایجاد بخشهایی با مدلهای مختلف که متشکل از فلز مذاب و جامد بلورین است می شود. انرژی هایی از kev20-500مورد توجه است.ارتباط بین XRDو کسری از جامد فقط تا اندازه ای از یک خط مستقیم به آن بستگی دارد.منحنی دارای کمی تقعر می باشد که علت ان تفاوتهای بین چگالی مایع و جامد است. انتقال پر انرژی دستگاه پراش شکل Eعناصر کلیدی مورد استفاده در اندازه گیری انتقال XRDرا نشان می دهد.لامپ اشعه ایکس توسط موازی ساز از صنایع رنگارنگ از پرتوهای ایکس که به پرتوهای کوچک دایره محدود می شود را با شدت بالایی تولید می کند.کسری از پرتو اشعه ایکس در واکنش با نمونه پراش می کند .یک imagerاشعه ایکس الگوی برخورد اشعه ایکس در دو منطقه حساس حرارتی تشخیص می دهد ،از آشکار ساز ممکن است برای اندازه گیری طیفهای اولیه و پراش ایکس انرژی های کوچک و بزرگ در محل imagerقرار بگیرد. شکلE:قطعاتس از زمان واقعی دستگاه انتقال پراش پرانرژی. از دو منبع پرتو ایکس در آزمایش استفاده شده است.هردو فلز سرامیک،تنگستن-لوله های آند یا پنجره خروجی برلیمی که برای تصویربرداری رادیوگراف صنعتی استفاده می شوددر نظر گرفته شده است.یک سیستم kev160در آزمایشهای اولیه مورد استفاده قرار گرفت،هرچند نشان می دهد که این مدل زمانی که برای یک پره توربین ریخته گری باشد به اشعه ایکس با انرزی بالایی نیاز دارد .افزایش ولتاژ لوله اشعه ایکس باعث تولید تابش با شدت بالاتر و نسبت خطوط مشخصه و یک bremstrahlungنمونه میشود و به علاوه پرتو ایکس با انرژی بالاتر سبب نفوذ آسانتر آن به قالب ریخته گری می شود .یک لامپ اشعه ایکس جدید تنش مجاز آزمایشهای ترانسفورماتور را با لوله به عنوان پتانسیل های بالا تاkev320افزایش می دهد. انتخاب قطر منبع اشعه ایکس (اندازه نقطه کانونی)از 20/1میلیمتر یا4میلیمتر(kev320افت)ویا 2/0 میلیمتر ویا 3 میلیمتر(kev160افت)را با فعال کردن یکی از دو رشته لوله انتخاب کرد.اندازه نقطه کانونی کوچک(2/1 میلیمتر)در kev320اغلب مفید است چون اندازه آن مربوط به قطر(1 میلیمتر)روزنه موازی ساز است. برای کنترل ثابت پتانسیل مولد اشعه ایکس ،لوله اشعه ایکس را به ولتاژهایی بینkev15kev320 وصل می کنند.در kev320در داخل لوله جریان 3میلی آمپر ایجاد شد.برای بعضی از این آزمایشات یعنی برای کاهش شدت منبع اشعه ایکس لازم است که سیگنالهای پراش توسط آشکارساز سیستم دریافت نشود.می توان یک شدت کم را با استفاده از تغییر کنترل ها به دست آورد.بنابراین لولهایی با جریان کمتر از 05/0میلی آمپر با تغییرات افزایشی از 05/0میلی آمپر امکانپذیر است. یک موازی ساز پرتو برای محدود کردن منبع اشعه ایکس طراحی و ساخته شده است.طراحی دستگاه دیافراگم سه گانه به حداقل رساندن و بهینه سازی واگرایی شدت پرتو ایکس است.از مجموعه های قابل تعویض از----با ضخامت9میلی متر در دیسک مورد استفاده قرار میگیرد می توان یکی از قطرهای 3/0میلیمتر،1 میلیمتر،5/1 میلیمتر،2 میلیمتر را انتخاب کرد.تراز لیزری قرارداده شده در پایه موازی ساز ،پرتو مرئی را طرح ریزی می کند که همان است که از اشعه ایکس ساطع می شود.هم ترازی این اجازه را می دهد که سریع،ایمن،سادهتر از توقف پرتو و نمونه باشد. پرتو اولیه که از طریق انتقال نمونه اغلب شدت بالایی دارد.مسدود کردن این پرتو به شناساگر کیفیت تصاویر را بهبود می بخشد واز حساسیت آشکار ساز به انرژی با سرعت بالا به تعداد دفعات جلوگیری می کند.سیم تنگستن کوچک (باقطر4 میلیمتروبا ضخامت6 میلیمتر) در مرکز اولیه پرتو ایکس قرار دارد. ودر زمان عبور از نمونه به عنوان beam syopعمل می کند.پراش پرتوهای ایکس از نمونه به طرف beamstop وimagerبود،در حالی که به شدت پرتو منکسر نشده اولیه تضعیف شده است . دیسک نازک تنگستن با حمایت کامپوزیت اپوکسی به حالت تعلیق در گرافیت درآمده است،میرایی کم در کامپوزیت باعث به حداقل رساندن سایه آن در تصاویر اشعه ایکس می شود. زمان واقعی imager اشعه ایکس به طور خاصی برای XRDطراحی شده است ،برای همه آزمایشات انجام شده مورد استفاده قرار گرفته است و گزارش شده است.صفحه نمایش جرقه زننده نوری است که به کیفیت تصویر می افزاید که با دوربینهای حساس به نور کم (CCD)در انتقال نور بسیار کارآمد است .رشته نمایشimager تقریبا 40 میلیمترعرض و 30 میلیمترطول دارد.imagerدر اصل با ضخامت 70 میکرومتر به جرقه زننده اکسی سولفید-گادولینیوم مجهز است.برای افزایش بهره وری imagerبه طور قابل توجهی پرتوهای اشعه ایکس با انرژی بالا با جایگزینی گادولینیوم-سولفوکسید –جرقه زننده با فیبر نوری به ضخامت 6 میلیمتر جرقه زننده نوری بهبود یافته تر بود.فیبرنوری جرقه زننده با گسترش یسیار کم نور وپربازده انتقال نور به شدت و کیفیت تصویر می افزاید.جرقه زننده شیشه ای نیز تعداد بسیار بیشتری از فوتون اشعه ایکس از گادولینییوم –اوکسی سولفید به خصوص در انرژی های بالا جذب می کند. دریافت و ذخیره سازی فریم های ویدئویی imagerبا فرمت PALبا هشت بیت با قاب تک رنگ نصب شده در کامپیوترهای شخصی انجام می شود.یک پردازنده متصل به قاب گیرنده ،سرعت تصویر وفریم به طور متوسط (برای افزایش نسبت سیگنال به سروصدا)انجام می دهد.به طور متوسط می توانددر سرعت25فریم در ثانیه انجام شود.نرم افزار پردازش تصویر می تواند با انجام فشرده سازی ،با افزایش دادن و کاهش دادن و همچنین با ***** کردن به صورت پویا و فعال به منظور ارتقائ تصویر،تصاویری با وضوح بالا به دست آورد. ضبط کننده ویدئوکاست چند فرمته برای ضبط رادیو گرافی مورد استفاده قرار می گیرد. برای تصاویر پراش در تمام ازمایشات انجام شده برای ضبط رادیو گرافی از یک ضبط کننده ویدئوکاست چند فرمته استفاده می شود.نوار ویدئو به عنوان یک نسخه پشتیبان برای تهیه تصویر مستقیم با قاب گیرنده مورد استفاده قرار گرفت ومخصوصا در مواردی که درآن تصویر به سرعت در حال تغییر باشد(به عنوان مثال،حوادث پویا وفعال از قبیل پر شدن قالب).فریم های ویدئو می تواند پس از آزمایش، توسط تکرار نوار ویدئو و از طریق قاب گیرنده دیجیتالی کرد.) آزمایشهای اتاق دمای پراش اشعه ایکس(XRD) تحقیقات ما برای نشان دادن امکان انجام انتقالXRDدر نمونه (موجود در قالب)و برای تعیین وضعیت جسمانی آن(جامد یا مایع)با نمونه گالیوم آغاز کردیم،که خواص آمستقل از حالت فیزیکی آن است.نمونه گالیوم تغییرهای قابل توجهی (سه درصد)در چگالی بین حالتهای جامد و مایع که اندازه کافی بزرگ است وبرای تولید روشنایی در یک تصویر رادیوگرافی این تفاوت ظاهر می شود.توانایی تعیین موقعیت مرز مایع جامد (در برابر مناطق روشن ترمناطق تیره تر پرتو نگار قرار دارد)به طور مستقل ارائه شده که عملکرد فضایی سنسور XRDرا تعیین می کند. شکل 2:انتقال تصویر XRD،Aجامد،Bمررز جامد مایعوCمایع و تصاویر رادیوگرافی آن(d)جامد (e)مرز جامد مایع(f)مایع.قمت بالایی تصویر رادیوگرافی روشن تر است زیرا پرتوهای ایکس کمتر توسط چگالی پایین گالیم جامد کاسته می شود. مرز موجود در سلول آزمونلاستیک آکرولیت بین حالتهای گالیوم جامد تولید شده(در بالای آن به دلیل چگالی پایین)وگالیم مایع پایدار است.موقعیت پرتو اشعه ایکس متواند در جامد یا مایع حرکت کند. حالت XRDبه صورت تصویربرداری رادیوگرافی با حذف دهانه موازی ساز از پرتو اشعه ایکس می توان ایجاد کرد .شکل 2 رادیوگرافی و عکسهای xrdرابا تعیین موقعیت اشعه ایکس صاطع شده در جامد ،مرز جامد مایع و به طور کلی در گالیوم مایع نشان می دهد.مساحت دایره سیاه در ناحیه سفید در مرکز هر تصویر رادیوگرافی توسط سایه beamstopتنگستن ایجاد می شود.پرتو اشعه ایکس در محور beamstopاست بنابراین منطقه تاریک و محل برخورد پرتو اشعه ایکس را نشان می دهد.
×
×
  • اضافه کردن...